電子特種氣體是特種氣體的一個(gè)重要分支，是集成電路(IC)、顯示面板(LCD、OLED)、光伏能源、光纖光纜等電子工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的關(guān)鍵性原材料，廣泛應(yīng)用于薄膜、光刻、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝，其質(zhì)量對(duì)電子元器件的性能有重要影響。
氣體的產(chǎn)品種類豐富，電子元器件在其生產(chǎn)過程中對(duì)氣體產(chǎn)品存在多樣化需求。就集成電路制造過程中需要的高純特種氣體和混合氣體的種類超過50種，且每一種工藝步驟中都會(huì)用到特定的氣體。此外，在顯示面板、LED、太陽(yáng)能電池片等器件的制造中的不同工藝環(huán)節(jié)均會(huì)用到多種特種氣體。
電子特氣在其生產(chǎn)過程中涉及合成、純化、混合氣配制、充裝、分析檢測(cè)、氣瓶處理等多項(xiàng)工藝技術(shù)，下游客戶對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量要求較高。尤其是極大規(guī)模集成電路、新型顯示面板等精密化程度非常高的應(yīng)用領(lǐng)域，對(duì)特種氣體的純化、雜質(zhì)檢測(cè)、儲(chǔ)運(yùn)技術(shù)都有著嚴(yán)格的要求。
高純氣體純度：特種氣體要求超純、超凈。純度每提升一個(gè) N 以及粒子、金屬雜質(zhì)含量濃度每降低一個(gè)數(shù)量級(jí)都將帶來工藝復(fù)雜度和難度的顯著提升。例如，12吋、90nm制程的集成電路制造技術(shù)要求電子特氣的純度要在 5N~6N 以上，有害的氣體雜質(zhì)濃度需要控制在 ppb(10-9);在更為先進(jìn)的28nm 及目前國(guó)際一線的 6nm~10nm 集成電路制程工藝中，電子特氣的純度要求更高，雜質(zhì)濃度要求甚至達(dá)到 ppt(10-12)級(jí)別。
電子混合氣配比的精度：隨著混合氣中產(chǎn)品組分的增加、配制精度的上升，常要求氣體供應(yīng)商能夠?qū)Χ喾N ppm(10-6)乃至 ppb(10-9)級(jí)濃度的氣體組分進(jìn)行精細(xì)操作，其配制過程的難度與復(fù)雜程度也顯著增大。
氣體儲(chǔ)運(yùn)：保證氣體在存儲(chǔ)、運(yùn)輸、使用過程中不會(huì)被二次污染，對(duì)氣瓶?jī)?nèi)部、內(nèi)壁表面的處理涉及多項(xiàng)工藝，均依賴于長(zhǎng)期的行業(yè)探索和研發(fā);此外，對(duì)于某些具有高毒性或危險(xiǎn)性的氣體，需要使用負(fù)壓氣瓶?jī)?chǔ)運(yùn)，以減少危險(xiǎn)氣體泄露風(fēng)險(xiǎn)。
氣體分析檢測(cè)：由于需要檢測(cè)的雜質(zhì)含量低至 ppb 級(jí)別，需要使用特殊的氣相色譜、ICP-AES、ICP-MS 等非常規(guī)分析方法。
電子特氣工藝系統(tǒng)：
特氣系統(tǒng)是指特種氣體的儲(chǔ)存、輸送與分配過程的設(shè)備、管道和部件的總稱。特氣系統(tǒng)工程是用于實(shí)現(xiàn)特氣系統(tǒng)安全使用的工程。
特氣系統(tǒng)組成
特氣系統(tǒng)由儲(chǔ)存、輸送、分配、控制四類設(shè)備組成。其中“存儲(chǔ)”指氣源部分(特氣柜GC)，“輸送”指配管部分(一般用雙套管)，“分配”指二次配部分(氣體分配柜VMB)，“控制”指監(jiān)督控制部分(氣體管理系統(tǒng)GMS)。
特氣系統(tǒng)特點(diǎn)
特氣系統(tǒng)中的每臺(tái)設(shè)備均配有PLC控制、彩色觸摸屏操作，帶有溫度、壓力、煙霧、泄漏監(jiān)控報(bào)警，并可擴(kuò)展地震監(jiān)控報(bào)警;單臺(tái)設(shè)備可以獨(dú)成系統(tǒng)獨(dú)立運(yùn)轉(zhuǎn)，也可多臺(tái)設(shè)備用PLC或TGO連起來組成大系統(tǒng)，在監(jiān)控中心統(tǒng)一監(jiān)控管理，其報(bào)警系統(tǒng)還可以與安監(jiān)系統(tǒng)、消防系統(tǒng)對(duì)接。
應(yīng)用行業(yè)及設(shè)備
芯片半導(dǎo)體、微電子企業(yè)、光伏太陽(yáng)能、生物制藥、新材料等行業(yè)，常配套用于濺射真空鍍、沉積刻蝕、鈍化清洗等設(shè)備。
